電子特種氣體之氯化氫氣體在半導(dǎo)體及相關(guān)領(lǐng)域的應(yīng)用

大約有110類電子特氣在半導(dǎo)體及相關(guān)領(lǐng)域應(yīng)用，常用類別超過30余。

按成分分類如下：

硅系、砷系、磷系、硼系、金屬氫化物、鹵化物和金屬烴化物七類

按用途分類如下：

摻雜用氣體、外延用氣體、離子注入氣、發(fā)光二極管用氣、刻蝕用氣體、化學(xué)氣相沉積氣和平衡氣

氯化氫（HCL）氣體屬于特種氣體中的腐蝕性氣體，一般作為發(fā)光二極管用氣及氣相刻蝕用氣，在晶圓制造中用于氧化、控制離子侵入氧化層、去除不必要的金屬雜質(zhì)和清洗。

因產(chǎn)品使用領(lǐng)域的精度越來越高，故提純成為電子特種氣體制備工藝中的最大技術(shù)要求。

本公司深耕氯化氫的高純制備工藝，三十幾年只為更高的純度，更穩(wěn)定的品質(zhì)而努力，成品得到了國際用戶的認(rèn)可，有林德、臺積電等知名大企業(yè)為我公司的產(chǎn)品質(zhì)量和服務(wù)背書。